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具备基础的纳米压印功能，可在玻璃、硅晶圆、塑料薄膜等表面压印出微纳结构。适用于科研院所日常学术、教学使用。
主要功能：
1.压印模式：紫外纳米压印，支持加热；
2. 设备采用软膜作为模板基材，压印时模板通过手动辅助撑平，手动脱模；
3. 曝光光源为365nm紫外LED光源，光照强度大；
4. 良好的压印均匀性和深宽比；
5. 设备配置1套高效FFU过滤网，内部洁净度达到千级或以上；
6.设备配置控制软件。可保存不少于50组工艺参数；能实现自动压印和曝光，且各工艺参数均可调节。
主要参数：
联系人：Mike
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