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自主研发的纳米压印胶压印而成。
具有耐酸碱、无荧光、可化学修饰、耐抛光等特性。
可用于制备二代基因测序仪的测序芯片。
使用纳米压印技术生产的纳米井阵列流动槽相比光刻产品成本更低。纳米井的阵列式排布保证了测序簇的均匀分布，让流动槽表面区域得到更有效的利用，相比非阵列式具有显著优势，有利于增加数据产出、降低测序成本、缩短运行时间。
特征：
1. 压印胶具有较高的硬度，可耐受抛光工艺。
2. 可耐受后续测序过程中的酸碱清洗加工工艺。
3. 压印胶表面经简单处理后可进行后续化学修饰。
产品参数：
1.外观：彩色玻璃片。
2.尺寸：8寸，可根据需要切割成小片。
3.微结构尺寸：可根据测序仪的实际需求调整。
注意事项：
1.避免锐器划伤表面。
2.皮肤接触后胶层表面如有油脂或灰尘可用乙醇等溶剂清洗除去。
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