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微孔氮化硅薄膜窗口由原位芯片经MEMS工艺加工而成，窗口薄膜上加工有微纳米孔阵列。
氮化硅窗口薄膜具有高洁净度、髙X射线透射性、耐高温、低应力且膜厚均匀等特性，适用于多个领域的研究。
应用：
1. 耐高温，可用于需要加热处理的样品观测。
2. 窗口薄膜表面无碳元素，可用于含碳样品分析。
3. 表面具有生物亲和性，可用于生物样品分析。
4. 表面耐酸碱，可用于需要化学处理的样品观测。
产品参数：
窗口薄膜厚度和尺寸，微孔尺寸和孔径，微孔阵列和数量可根据需要调整。
| 材料 | LPCVD氮化硅 |
| 电阻率 | 1016 Ω·cm |
| 介电常数 | 6-7 |
| 介电强度 | 10 (106 V/cm) |
| 粗糙度（Ra） | 0.28±5% nm |
| 粗糙度（Rms） | 0.40±5% nm |
| 应力 | <250 MPa |
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