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具有晶圆自动进样、辊压、曝光和脱模等功能，操作界面简洁，可调节辊压速度、辊压压力、曝光时间、脱模方式等参数以获得最优的转印效果。
设备主要功能
1.压印模式：紫外纳米压印，支持加热；
2. 设备采用软膜作为模板基材，模板通过张力机构撑平且张力可调节；
3. 曝光光源为365nm紫外LED光源，光照强度高，光强分布均匀；
4. 压印均匀性和深宽比高；
5. 设备配置1套高效FFU过滤网，内部洁净度达到百级或以上；
6. 设备配置控制软件。可保存不少于50组工艺参数；能实现自动进样、辊压、曝光和脱模，且各工艺参数均可调节。
设备主要参数
联系人：Mike
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