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大幅面辊对板式纳米压印机可实现高精度微纳米结构的图形复制，适用于各类基片材质。本设备可根据用户需求进行模块的增配和删减，以达到用户的使用需求。设备可兼容多种基片尺寸，压印幅面可定制；能实现自动压印、曝光和脱模，且曝光时间、压印参数、脱模参数等工艺参数均可调节。
设备主要功能
本产品可支持压印模式：紫外压印；
样品台具备加热功能。温控范围为30℃到150℃，温控分辨率可达到0.1℃；
设备采用软膜作为模板基材，模板通过张力机构撑平且张力可调节；
曝光光源为紫外LED光源，波长为365nm，光照强度最高可达1500mW/cm2；均匀性优于85%；
8寸晶圆上压印均匀性优于±3%;设备配置U15高效FFU过滤网，内部洁净度达到百级或以上；
设备配置控制软件。可保存不少于50组工艺参数；且支持手动和自动两种操作模式。
设备主要参数
压印尺寸 | 压印幅面≥1.5m*1m,可兼容适配2-12英寸晶圆（特殊尺寸可定制） |
支持基底材料 | 硅片、石英、金属、塑料、玻璃等 |
控制方式 | PLC+工控机 |
人机交互界面 | 10寸触摸屏 |
压印精度 | 优于30nm，重复精度优于0.5%每次 |
压印深宽比 | 结构深宽比优于4:1 |
残余层控制 | 2-8英寸晶圆残胶层均匀性优于±5nm，米级面积优于±5μm |
设备内部环境控制 | 标配，外部环境Class 100，内部环境可达Class 10 |
自动压印 | 支持 |
自动工作模具复制 | 支持 |
自动脱模 | 支持 |
自动曝光 | 支持 |
紫外固化光源 | 紫外LED（365nm）光源，光强最高可达1500mW/cm2，风水冷冷却（>400mW/cm2类型光源可选配） |
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