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等离子体原子层沉积设备

等离子体原子层沉积设备

通过交替引入前驱体和反应气体,在真空腔体内形成原子级精度的薄膜。该设备腔体内均匀分布加热模块,控温精度高;方形反应腔体容积大,适用性广,能够满足常规量产需求。

产品主要技术参数:

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